1纳米可期!ASML研发第二代EUV光刻机

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【TechWeb】半导体制造过程中最多样化也是最难的步骤可是光刻,光刻机也否则成为最重要的半导体制造设备。在7nm制程的较量中,台积电并非 不不可以领先,两个 很重要的原困可是EUV技术,在半导体制造的工艺中,这偏离 的成本就能占到33%左右。

目前最先进的光刻机可是来自这家ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,否则供不应求。ASML的主要客户为全球一线的晶圆厂,除了英特尔、三星和台积电这三大巨头之外,国内的中芯国际也是ASML的客户。

有外媒报道称,ASML公司目前正积极投资研发新一代EUV光刻机,和往代的相比,新款EUV光刻机最大的变化可是高数值孔径透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。并且ASML签署的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年,不过最新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产,你这个时间上台积电、三星都原困量产3nm工艺了。